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Ingeniería tisular en regeneraciones mediante barreras oclusivas

Resumen

Con el auge y democratización de la Implantología, los casos a los que nos enfrentamos a diario son cada vez más complicados, bien por ausencia de volumen óseo o por una pérdida vertical. Tal es así, que hoy en día aproximadamente el 50% de los pacientes requieren regeneración ósea guiada (ROG) y en la zona antero superior este porcentaje puede llegar hasta el 77% (1). Esto conlleva que a veces se coloquen implantes en crestas insuficientes, con el consiguiente problema futuro, o que el paciente tenga que someterse a un complejo proceso de ROG con una alta morbilidad y una gran dificultad técnica, ya que en algunas zonas no es viable el crecimiento óseo requerido.

Hace 50 años cuando se formularon las bases biológicas de la regeneración ósea guiada con los postulados de Melcher (2), se estableció que lo fundamental para lograr la regeneración ósea era estabilizar el coágulo y protegerlo de la invasión del tejido conectivo y de las bacterias, además de la deformación física. Durante este tiempo se han venido aplicando diferentes técnicas y materiales para lograr dicho objetivo con resultados dispares.

El caso que presentamos muestra una ganancia ósea que difícilmente se podría conseguir con las técnicas convencionales, reduciendo significativamente el tiempo de tratamiento y permitiendo la colocación del implante de manera simultánea. En este artículo presentamos una técnica revolucionaria que permite que el coágulo sea protegido y estabilizado para que sirva de matriz a las células osteoprogenitoras y permita el desarrollo de hueso, con la ventaja de poder hacerlo a medida.

Palabras clave: ROG, membrana no reabsorbible, malla de titanio, barrera oclusiva, aumento óseo, coágulo sanguíneo.

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Autores

Licenciado en Odontología por la UPV/EHU. Postgrado en Implantología Oral FIE, avalado por la Universidad de Loma Linda (California, EEUU). Práctica exclusiva en Implantología y Periodoncia.

Colaboradores

  • Dra. Estela Cabello Plaza - Licenciada en Odontología por la UPV/EHU. Alumna en el diploma de implantología clínica Universidad Complutense de Madrid (UCM).

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